第845章【新城微電子半導體】

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別看上次陳宇在外網的那次手筆嚇壞了鎂國人，但這並沒有從根本上改變因特網是被老美控制的事實，儘管陳宇有強大的入侵技術水平，但如果老美直接物理上“拔網線”你也沒轍。

說到底，因特網終究是鎂國人控制的網，而不是真正意義上的網際網路。

現在確實因為陳宇此前在外網的出手對老美起到了一定的震懾作用，但也可以肯定的是，老美那邊的技術團隊現在絕對是在瘋狂的修復中。

現在能具備一定的威懾力，以後可就難說了。

說來說去還是得擺脫因特網，這才是從根本上解決可能被老美單方面“斷網”威脅的辦法。

顯而易見，電信網是可以繞開因特網的一系列問題，因為電信網可不受鎂國人的控制。

加上衛星通訊可以打破電信網的領土邊界管轄的問題，這又是衝出國門，走向世界的關鍵。

畢竟，全世界還是有一大票人不爽美帝的，只不過迫於其勢不敢表露出來，與之不對付的大有人在，活在其陰影中的也大有人在，有時候明知道自己的通訊裝置可能被老美監控，但是沒辦法，你不用就沒得用。

老美的“稜鏡門”事件才過去沒多長時間。

如果這個時候能夠出現一款替代產品，還能完全規避CIA的監控，那吸引力絕對是槓桿的，就算表面上說絕對不用，私底下肯定會過來悄悄摸的下單。

這也是星宇科技的產品未來走向國際化的一大重要的賣點。

卻說此刻，方鴻與秦豐的視訊連線商討展開了半個多小時左右便就此結束，星宇科技目前的開發任務也很繁重，手底下不但有拳頭產品STAR系列智慧手機的全國產化之路，現在還有新能源車這一塊也在發展。

方鴻與他結束通話之後，順手便在電腦上開啟了行情軟體，然後輸入了一個程式碼瞅了眼，其所對應的公司叫“新微半導體”，這家企業是群星系旗下的子公司，也是此前方鴻擬定的20家新上市的子公司之一。

在方鴻制定的國產半導體全產業鏈體系中，這家企業負責的便是光刻機這一塊的裝置廠商，光刻機對於半導體行業的重要性無需多言了，可見其身肩重擔，被寄予厚望。

該公司就在今天正式登陸A股市場，走的是借殼上市的路子，正常IPO肯定是沒這麼快，新微半導體公司目前都是處於燒錢階段，沒有任何的盈利，也只能走借殼上市的路子。

此次借殼上市，新微半導體向市場要了105個億，估值700億元，在半導體行業板塊上來就給到700億的估值是非常罕見的，此前就沒有過。

而且，眼下板塊內超過500億市值的半導體公司都是隻手可數，這在一定程度上也反應了國產半導體的窘境。

方鴻瞅了眼新微半導體的分時盤面，復牌首日不設漲跌幅限制，盤中股價最高衝到了59元價位，漲幅超+114%，市值規模飆升到了1600億之巨，直接躍升成為當前半導體板塊市值第一股。

不過這會兒已經回落下來了，目前的股價維持在了40元價位附近震盪，對應的市值規模大約1000億左右，最終收盤也在40元價位上方結束。

……

到了第二天一早，方鴻起來瞅了瞅早間資訊，看到了一條與光刻機，乃至和新微半導體裝置公司有關的新聞。

ASML公司總裁彼得在媒體上公開聲稱：華國企業自研光刻機的行為，是在破壞全球晶片產業鏈……

“呵呵……”

方鴻看到這條新聞不禁笑了，自顧自地說道：“看來，多少還是有點急眼了啊，急眼就對了。”

國產光刻機對標世界最先進水平其實還有很長的一段距離要走的，可是今年上半年以來，大基金的出現讓國際上的那些廠商感覺到了“不對味兒”，他們一開始就嘗試要滲透、孵化大基金的管理層。

可他們並沒有意識到，這會兒的大基金管理層團隊雖然明面上和群星資本沒什麼關係，但實際上都是方鴻派過去的人，而結果就是他們發現滲透、孵化這一招收效甚微。

現在大基金的前都在落地到實處，比如這主攻光刻機的新微半導體就拿了不少錢，而且昨天借殼上市又向資本市場要了105個億，幾乎提供了花不完的錢。

拿了那麼多的錢，基本都砸到研發專案裡。

目前新微半導體同時在搞三代光刻機，因為光刻機的研發生產並不需要由低到高、循序漸進，是可以平行研發的，所以新微半導體直接起了三個團隊並行研發。

這三個團隊分別攻關第四代ArF光刻機，第五代ArFi光刻機，以及第六代極紫外光EUV光刻機。

第四代的ArF光刻機與第三代KrF原理一樣，但光源升級，採用193nm光源的光刻機，這兩種稱之為DUV光刻機。

而第五代ArFi光刻機，採用的也是193nm光源，但這種又與ArF不一樣，之前所有的光刻機其介質採用的是空氣，但到了ArFi光刻機時，採用的是水。

光線在經過水時，會有折射，所以雖然ArFi光刻機採用193nm波長光源，經水折射時，等效於134nm波長的光源，所以這種光刻機，叫做浸潤式光刻機。

說起來，曾經業界光刻機技術停止了很多年，尼康、佳能想把光源從193nm升級為165nm，但好多年沒成功。

而抬積電提出來用水作介質，就跳過157nm，變成143nm了。

尼康、佳能很傲慢，不理抬積電，那時候ASML只是個小廠，也敢於一試，最後就搏出了ASML的未來，研發出了ArFi浸潤式光刻機，然後打得尼康、佳能一敗塗地，成就了今天的行業地位。

而第六代EUV光刻機，採用的則是13.5奈米的極紫外線光源了，這種光刻機目前全世界都沒有搞出來，ASML也一樣，針對的事7奈米制程級別的晶片製造，而當前世界最先進的製程是在14奈米這一階段。

可以確定的，整合國內光刻機產業鏈的新微半導體，其技術水平就是代表了目前國產技術的最高水平，現在是把所有的相關資源都砸在了新微半導體身上，由該公司對光刻機展開全力攻克任務。

像G線、I線國內都有了，KrF也有了，就是新微半導體突破的。

目前在攻克的ArF光刻機也已經快要突破了，並且正在全力死磕ArFi光刻機，同時對於極紫外光刻EUV的研究也有團隊在展開論證。

各代的光刻機開發團隊並行展開，同時也相互交流。

現在的新微半導體是要錢有人給錢，要人才方鴻這邊到處給他找，而且因為老美對技術、元件等進行了封鎖，在很大程度上非但沒有擊垮，反而因為外部的壓力促使內部變得更加團結一致死磕。

……